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精質(zhì)電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備檢測(cè)原理!_i

作者:    發(fā)布時(shí)間:2024-06-25     瀏覽次數(shù) :0


各領(lǐng)域信息技術(shù)的快速發(fā)展和不斷創(chuàng)新,給電子產(chǎn)業(yè)帶來了巨大的市場需求和發(fā)展空間,從而推動(dòng)了電子元器件產(chǎn)業(yè)的強(qiáng)勁發(fā)展和不斷智能化,電子元器件的集成化和小型化給電子元器件的外觀檢測(cè)帶來了困難。

  由于視覺檢測(cè)速度慢、效率低,加之工人經(jīng)驗(yàn)、身體狀況等主觀因素,傳統(tǒng)的手工檢測(cè)已不能滿足企業(yè)不斷增長的生產(chǎn)能力的需要。如今,隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,無錫精質(zhì)基于機(jī)器視覺技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)的電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備已廣泛應(yīng)用于制藥、包裝、汽車制造等行業(yè)。  電子元器件電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)各種檢測(cè)、判斷、識(shí)別、測(cè)量等功能,實(shí)現(xiàn)數(shù)字圖像處理技術(shù)的不斷創(chuàng)新和發(fā)展,攝像機(jī)、光源等軟硬件設(shè)備為電子元器件外觀的自動(dòng)檢測(cè)提供保障。因此,使用基于機(jī)器視覺技術(shù)的電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備對(duì)企業(yè)來說是非常迫切和關(guān)鍵的。

  精質(zhì)電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備檢測(cè)原理

  精質(zhì)電子元器件外觀檢測(cè)設(shè)備利用CCD攝像機(jī)將檢測(cè)到的目標(biāo)轉(zhuǎn)換成圖像信號(hào),并傳輸?shù)綄S脠D像處理系統(tǒng)。圖像處理系統(tǒng)根據(jù)像素分布、亮度、顏色等信息將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)。圖像處理系統(tǒng)對(duì)這些信號(hào)執(zhí)行各種操作以提取目標(biāo)的特征。

  產(chǎn)品表面的各種缺陷和缺陷在光學(xué)特性上必須與產(chǎn)品本身不同。當(dāng)光線進(jìn)入產(chǎn)品表面時(shí),各種缺陷和缺陷會(huì)在反射和折射方面表現(xiàn)出與周圍環(huán)境不同的外觀?! ±纾?dāng)均勻的光垂直入射到產(chǎn)品表面時(shí),如果產(chǎn)品表面沒有缺陷,則發(fā)射方向不會(huì)改變,并且檢測(cè)到的光是均勻的。當(dāng)產(chǎn)品表面含有缺陷時(shí),發(fā)出的光會(huì)發(fā)生變化,檢測(cè)到的圖像也會(huì)相應(yīng)變化。

  由于缺陷的存在,缺陷周圍會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力集中和變形,因此在圖像中很容易觀察到。如果遇到透光缺陷(如裂縫、氣泡等),光線將在缺陷位置折射,且光強(qiáng)將大于周圍光線。

  因此,在相機(jī)目標(biāo)上檢測(cè)到的光將相應(yīng)地增強(qiáng)。吸收性雜質(zhì),例如沙粒,會(huì)減弱缺陷位置的光線,并且在相機(jī)目標(biāo)表面上檢測(cè)到的光線比其周圍的光線弱。通過分析攝像機(jī)采集到的圖像信號(hào)的強(qiáng)度和特征,可以得到相應(yīng)的缺陷信息。
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